光刻胶技术突破利好国风新材
2025-12-02
12月1日,光刻胶概念出现异动拉升,国风新材在板块中表现活跃。
分析人士指出,上涨主要受市场对半导体光刻胶本土化替代的强预期驱动,同时得益于国内企业在产品技术上的突破与落地。银河证券强调“十五五”规划将聚焦关键核心技术自主突破,光刻胶作为核心耗材,其本土化需求有望随政策推进持续释放。
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分析人士指出,上涨主要受市场对半导体光刻胶本土化替代的强预期驱动,同时得益于国内企业在产品技术上的突破与落地。银河证券强调“十五五”规划将聚焦关键核心技术自主突破,光刻胶作为核心耗材,其本土化需求有望随政策推进持续释放。
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