【经营】北方华创发布全新离子束刻蚀设备，技术突破覆盖多场景

北方华创于今日发布全新12英寸气体团簇离子束GCIB刻蚀设备Acme Glaion130，该设备突破三大核心技术瓶颈，覆盖先进逻辑、存储、封装、硅光芯片及AR/VR应用场景。Acme Glaion130实测性能优异，整面刻蚀膜厚控制精准，保持原子级光滑表面，综合性能达到同类型设备领先水平。设备具备多场景兼容能力，满足高端芯片及前沿领域刻蚀需求，包括先进逻辑/存储芯片、先进封装、硅光芯片和AR/VR领域。