【经营】崇达技术mSAP工艺线宽/线距达20/20微米,可支持更高密度芯片封装
2026-06-24
公司mSAP(改良型半加成法)工艺较早,子公司普诺威已于2023年建成相关产线并正式投产,主要用于提升IC载板精密度,线宽/线距达20/20微米,可支持更高密度芯片封装。
该产线已具备1-6阶HDI制作能力,并持续迭代高端制程能力。
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