日久光电获高耐候低反射薄膜专利授权

日久光电获得实用新型专利授权，专利名为“高耐候的低反射薄膜”，该专利通过多层涂层设计提升薄膜耐候性和抗反射性能。今年以来公司新获专利授权10个，同比减少58.33%，但2024年研发投入3379.41万元，同比增长6.48%。公司目前拥有专利信息203条，对外投资2家企业，参与招投标项目2次。