上海新阳光刻胶迎政策利好，国产替代加速

商务部对日本加强两用物项出口管制，旨在促进国内半导体配套产业发展，国产光刻胶厂商将获得更多订单和试用机会。

上海新阳具备全线光刻胶配方研发和生产能力，已建成KrF/ArF全系产品平台，正在进行ArF产品测试和验证。随着国产光刻胶需求激增，公司光刻胶业务未来可能迅速放量。