【经营】上海新阳光刻胶技术突破与产能规划

上海新阳在半导体材料领域构建了电子电镀、清洗、光刻、研磨、蚀刻五大技术平台，形成协同闭环优势。

公司已建成i线、KrF、ArF干法、ArF浸没式光刻胶完整产品体系并实现批量销售，EUV光刻胶同步开发中，光刻胶业务2024年销售额同比提升超100%。

平台化策略使单点技术突破后能成套导入产品，放大市场规模并摊薄成本，推动净利率从2022年不到5%提升至2024年11.89%。

公司规划未来三年建成500万吨/年光刻胶产能，并投入18.5亿元建设研发中心，以应对快速增长的市场需求。