【观点】上海新阳ArF光刻胶中试推进并合作研发EUV技术，行业国产替代加速

中研网于2026年6月11日发布的行业深度分析指出，上海新阳在光刻胶领域取得两项关键进展：ArF干法光刻胶中试顺利推进，同时联合上海微电子开发EUV底层技术。报告强调，当前光刻胶行业正从'能做'向'好用'跃迁，高端产品国产替代空间广阔，政策与需求双重驱动下，具备技术储备的企业有望受益。