光刻机+泛半导体双引擎驱动 新莱应材迎风口

新莱应材因涉及泛半导体领域及光刻机相关技术受关注。公司产品包括真空系统、气体系统等，可应用于泛半导体设备供应商及终端制造商，其AdvanTorr和NanoPure品牌产品已服务于光刻机制造商。近日在行业论坛上，新凯来公司高管透露其开发的六大类工艺装备覆盖先进逻辑和存储领域，推动新莱应材相关产品需求预期升温。