光刻机板块走强 新莱应材盘中创新高

今日光刻机板块走强，新莱应材涉及半导体设备和光刻机部件领域，盘中创新高。板块走强受深圳以超常规力度设立50亿元半导体产业投资基金、新凯莱将参展10月15—17日湾区半导体展并预期带来惊喜、11月20—21日将举办光刻胶研讨会强化国产替代预期等因素推动。分析人士指出深圳政策提供短期产业催化剂，新凯莱技术突破预期吸引市场资金提前布局，研讨会有望增强板块长期投资信心，但需关注消息落地进度及近5个交易日板块主力资金累计净卖出17.11亿元反映的短期分歧。