【观点】南大光电光刻胶突破与国产替代机遇

南大光电在高端光刻胶领域实现重要突破，多款ArF光刻胶产品通过国内主流晶圆厂验证并实现小批量供货，填补了国内相关技术空白，助力产业链降低对外依赖。在AI算力驱动半导体高景气背景下，光刻材料需求持续攀升，SOC与BARC配套材料国产化率低，替代空间广阔。公司电子特气、前驱体材料等业务协同发展，坚持高比例研发投入，积极参与国内半导体供应链建设，在行业高景气与自主可控双重驱动下成长潜力突出。