强力新材：光刻胶专用化学品龙头，EUV材料研发再突破

强力新材作为光刻胶专用化学品全球前三企业，其PSPI（光敏聚酰亚胺）国内市场占有率第一，应用于Chiplet封装领域。2024年公司与中科院微电子所成立联合实验室，攻关EUV光刻胶关键材料，专利储备达127项。业务覆盖长电科技、通富微电等头部封测厂商，并在3D封装用电镀液领域打破日本垄断。