光刻胶技术获突破，晶瑞电材迎利好

北大团队在光刻胶领域取得技术突破，通过冷冻电子断层扫描技术解析了光刻胶分子微观三维结构，开发出可减少光刻缺陷的产业化方案，相关论文发表于《自然·通讯》。该技术突破属于光刻胶行业重要进展，对晶瑞电材业务发展有积极意义。