捷佳伟创再获清洗设备专利，研发投入加速技术壁垒

捷佳伟创获得实用新型专利授权‘一种硅片镀膜载具清洗设备’，该设备通过双清洗系统设计解决清洗不均匀问题。2025年至今已获43项专利，同比增43.33%；2024年研发费用达6.49亿元，同比增38.94%。