捷佳伟创联合中山大学攻克TCO薄膜技术瓶颈

捷佳伟创（300724）联合中山大学材料学院成功攻克透明导电氧化物TCO薄膜技术瓶颈，创新性提出“临界成核策略”，制备出高电子迁移率的铈掺杂氧化铟ICO薄膜，研究成果发表于国际顶级材料期刊《Advanced Materials》。