【经营】捷佳伟创半导体清洗湿法设备覆盖第三代半导体等领域
2026-06-29
捷佳伟创在投资者互动平台表示,公司的半导体清洗湿法设备包含晶圆湿法刻蚀、清洗,光掩膜石英衬底与光掩膜版的刻蚀与清洗,光学玻璃清洗等,产品覆盖6-12英寸晶圆制造、第三代半导体(SiC/GaN)、硅基功率器件、光掩膜版及先进封装领域,可提供整厂湿法设备一体化交付。
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