【观点】集成电路布图设计条例修订,原创设计保护全面升级
DEEPTOPIC · 深度研究
2026-08-04
国务院公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》,将于10月15日施行,距上一版已近25年。新条例引入独创性声明、虚假申请规制、惩罚性赔偿与权利恢复四项制度,覆盖从申请到维权的完整流程。对芯片设计公司而言,原创设计将获得更强法律保护,正向设计能力强的企业与依赖简单复制者的差距可能拉大。在模拟芯片、射频芯片等依赖电路设计经验的领域,保护升级尤为关键。
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