国林科技：臭氧技术助力半导体工艺应用

国林科技7月7日在互动平台回答投资者提问时表示，臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。