国林科技解析臭氧在ALD与ALE技术中的作用差异
2025-12-17
国林科技在投资者互动中解释了臭氧在原子层刻蚀(ALE)和原子层沉积(ALD)中的核心差异。
公司指出,二者的核心差异是作用相反,且均依托自限性循环:臭氧在ALD中作为氧前驱体,与TMA等反应沉积单原子层氧化物薄膜;在ALE中则作为氧化剂,氧化基底表面原子后剥离,实现单原子层刻蚀。
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公司指出,二者的核心差异是作用相反,且均依托自限性循环:臭氧在ALD中作为氧前驱体,与TMA等反应沉积单原子层氧化物薄膜;在ALE中则作为氧化剂,氧化基底表面原子后剥离,实现单原子层刻蚀。
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