光刻机方案获验证，波长光电涨超6%

光刻机板块今日异动拉升，其中波长光电涨超6%。消息面上，阿斯麦（ASML）首席执行官表示，为High-NA EUV所设计的光刻改进方案已得到验证，成像效果极佳，分辨率非常出色。

目前公司正与客户合作，全面完善该光刻系统的成熟度，并预计High-NA EUV将在2027至2028年间实现大规模量产。波长光电作为光刻机光学组件供应商，被列为相关概念股。