光刻机国产化加速 半导体设备迎发展契机

近期上证指数突破3700点，光模块、芯片设计等概念受消息催化轮涨。光刻机作为芯片制造核心设备，其国产化进程备受关注。中国光刻机研发从零起步，目前实现90nm芯片量产，国产化率仍不足1%，但市场规模快速增长。政策支持、国产替代需求推动半导体设备与材料发展，科创半导体ETF聚焦相关产业链，成分股涉及光刻机上下游企业。