至纯科技：聚焦半导体赛道，先进制程研发持续突破

至纯科技在互动平台回应投资者关于超临界CO₂清洗技术进展的提问，强调公司专注半导体领域，通过‘工艺—设备—材料’三位一体发展，湿法工艺机台已响应先进制程需求，并持续与国内头部集成电路客户合作研发更先进制程技术，目标成为国内领先的工艺设备及系统供应商。