【经营】至纯科技S300D湿法清洗平台获国芯展创新成果奖

至纯科技携展品亮相第26届中国国际工业博览会集成电路展（“国芯展”），S300D先进制程湿法清洗平台荣获2026“国芯展”创新成果奖。

该平台由旗下至微科技自主研发，主要应用于300mm半导体制造中的湿法清洗和刻蚀工艺，实现关键环节自主突破并提供国产替代方案。同时，旗下至纯集成推出高纯工艺场景化解决方案及智慧场务系统，进一步巩固在高纯领域的领先地位。

获奖表明国产湿法清洗设备在先进制程领域的自主创新能力获得行业权威肯定。