洪田股份受益国产光刻机突破，光刻胶材料迎发展良机

全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"研发成功，精度达到0.6nm，线宽8nm，专用于量子芯片和新型半导体研发。同时，我国在纳米压印光刻和第三代半导体领域也取得突破。洪田股份作为光刻胶配套材料生产商，具备规模化生产能力，将受益于相关技术进步带来的市场需求增长。