中微刻蚀设备助力科创板集成电路突破

中微公司作为科创板集成电路领域龙头，其等离子刻蚀设备已进入客户5nm产线，刻蚀设备和薄膜沉积设备在国内主流晶圆厂大规模应用，打破国际垄断并促使进口设备降价。公司核心技术助力国产芯片制造成本下降，2024年科创板集成电路企业平均研发强度达22.5%，中微等企业持续推动半导体设备国产化替代。