中国专利奖结果公布：新声、中微等半导体企业入选

中微公司凭借其《一种化学气相沉积装置及其清洁方法》专利，入选第二十五届中国专利奖。该专利涉及一种先进的化学气相沉积装置，提升了设备的清洁效果和效率，有助于提高半导体制造工艺的质量。此次评选还包括多家知名半导体企业，展示了国产半导体产业的高水平发展和对知识产权保护的重视。