中微公司推出多款新设备 平台化布局加速

9月4日，中微公司在半导体设备展上推出六款新设备，涵盖高深宽比&选择比刻蚀、ALD、EPI等类型。其中高深宽比CCP刻蚀机可满足NAND发展需求，金属刻蚀ICP设备已付运客户验证；ALD设备覆盖关键材料，双腔EPI设备能降本增效且已进入客户验证。公司平台化布局加速，截至2025年上半年末已有6800台反应腔在155条产线量产，同时切入电子束检测领域。分析师维持公司2025-2027年归母净利润预测及“买入”评级。