中微公司ICP刻蚀设备加速增长，高端产品大规模量产

2025年上半年，公司ICP刻蚀设备已在逻辑、DRAM、3D NAND等领域超50家客户产线实现大规模量产，设备累计装机反应台超1200台。

在新签订单中，ICP设备的占比已略高于CCP设备，呈现快速起量态势。公司紧跟客户与市场技术需求，稳步推进先进ICP刻蚀技术研发，以满足新一代逻辑、DRAM及3D NAND存储芯片的制造需求。刻蚀业务受益于存储扩产，其等离子体刻蚀设备已大量用于先进三维闪存和动态随机存储器件的量产。2025年前三季度，公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，并已实现大规模量产。