【经营】中微公司自主技术突破驱动业务高增长 刻蚀设备覆盖3nm及以下先进制程产线

中微公司锚定高端半导体设备赛道，坚持自主创新路线，首创的甚高频去耦合反应离子刻蚀技术已成为行业主流方案，其刻蚀设备覆盖95%以上刻蚀应用，打入3纳米及以下集成电路生产线，截至2026年6月底累计超8800个反应台在220余条国内外产线实现量产。

同时公司向薄膜沉积等领域拓展业务线，2025年LPCVD等薄膜设备销售同比大增224.23%，高研发投入持续巩固技术壁垒，驱动业务保持高增长态势。