【观点】集成电路布图设计条例修订落地，原创芯片设计企业迎利好

国务院8月3日公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，将于10月15日施行。新条例新增独创性声明、虚假申请规制、惩罚性赔偿和权利恢复四项制度，覆盖从申请到维权的全流程。

分析认为，知识产权保护力度升级后，拥有原创设计能力的芯片设计企业将获得更强法律后盾，与依赖简单复制的企业之间差距可能进一步拉大，行业集中度提升趋势有望加速。半导体IP授权、EDA工具等产业链环节也将间接受益。