国产半导体设备集体突围 拓荆科技新品助力自主可控进程

拓荆科技在SEMICON China大会上发布原子层沉积ALD设备、3D-IC及先进封装系列和CVD系列新品，其新一代ALD设备在均匀性、成本等指标达业界领先水平，巩固国内ALD领域装机量第一地位。同期，新凯来、北方华创等国产半导体设备企业集中发布突破性产品，推动国产设备在刻蚀、薄膜等关键领域加速国产替代进程，行业整体国产化率提升至13.6%，但与国际水平仍有差距。