拓荆科技携三大战略新品亮相，3D IC设备布局加速

拓荆科技在SEMICON China大会上发布三大战略新品，包括新一代ALD设备、CVD设备及键合设备，其中ALD设备工艺覆盖率国内第一，键合设备装机量和覆盖率领先。公司反应腔出货量超1000台，业务从前道设备向3D IC领域拓展，技术能力及市场覆盖度进一步提升。同时，国产设备平台化布局加速，零部件国产化进程受关注，有望推动产业链协同进步。