拓荆科技Infocomm秀实力 沉积技术受瞩目
2025-11-28
拓荆科技于2025年11月27日在Infocomm China 2025展会上展示了其半导体沉积设备技术。
公司重点呈现了PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD和Flowable CVD等产品,突显了在薄膜沉积领域的创新能力和市场竞争力。
公司重点呈现了PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD和Flowable CVD等产品,突显了在薄膜沉积领域的创新能力和市场竞争力。
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