拓荆科技迎光刻机技术突破利好

国产光刻机领域实现关键突破，上海芯上微装首台350nm步进光刻机已完成出厂调试并正式发往客户。

光刻机作为半导体核心设备价值占比居首，行业预测2025年全球晶圆代工营收及设备支出将持续增长。

兴业证券分析指出先进工艺扩产将成为自主可控主线，半导体设备公司有望受益。