【观点】拓荆科技发布新设备助推国产替代

拓荆科技在SEMICON CHINA 2026展会上发布新一代原子层沉积设备VS-300T Astra-S SIN PEALD，该设备搭载4个反应腔，结构紧凑，具备高产能与优异坪效比，可沉积高质量氮化硅薄膜，在均匀性、缺陷控制、台阶覆盖率等方面达国际先进水平，适用于逻辑、存储等先进节点。

机构分析认为，长期而言，在AI算力、先进存储、新能源等需求持续驱动下，国内半导体产业将维持高景气态势，其中国产替代是最明确的投资主线，本土企业凭借技术突破有望在全球半导体产业格局中占据更重要地位。