半导体清洗设备核心部件超纯槽体市场规模增长，国产替代加速

半导体湿法设备超纯槽体是半导体清洗工艺的关键部件，2024年我国市场规模达3.03亿元，同比增长0.22亿元；单体成本增至21万元，较上年涨3.5万元。盛美上海作为国产半导体清洗设备核心企业之一，受益于国产替代加速趋势，但面临材料成本上涨压力。