盛美上海推出首款KrF涂胶显影设备并交付客户

盛美上海于2025年9月8日宣布推出首款KrF工艺前道涂胶显影设备Ultra Lith KrF，该设备旨在支持半导体前端制造，标志着公司光刻产品系列的重要扩充，具备高产能、先进温控技术及实时工艺控制和监测功能，首台设备系统已于当月交付中国头部逻辑晶圆厂客户。