盛美上海首款KrF涂胶显影设备交付头部客户

盛美上海首款高产能KrF前道涂胶显影设备Ultra Lith KrF系统已顺利交付中国头部逻辑晶圆厂客户。该系统标志着公司光刻产品系列的重要扩充，具备高产能（超过300片晶圆/小时）、先进温控技术（54块可精确控温热板，支持低温、中温及高温工艺处理）及实时工艺控制和监测功能，配备12个旋涂腔和12个显影腔（12C12D），并集成专利申请中的背面颗粒去除模块（BPRV）以降低交叉污染风险。