分析师：盛美上海前道核心设备获突破，国产替代打开高增长空间

舆情援引卖方分析师的深度报告指出，盛美上海的新一代前道涂胶显影设备获得国内主流晶圆厂验证通过并进入量产阶段，标志着国产高端半导体设备取得重大突破。

报告强调，该设备成功打破了海外厂商在涂胶显影这一核心工艺环节的长期垄断，设备毛利率有望提升至50%以上，为公司开辟了全新的高价值成长曲线。

分析师认为，随着国内晶圆厂对供应链自主可控需求的持续提升，公司作为国产设备龙头将深度受益于相关环节的国产替代浪潮。