华海清科晶圆擦洗技术专利公布，抛光设备再升级

华海清科股份有限公司的专利'一种晶圆擦洗设备、晶圆擦洗系统和抛光设备'公布，该专利通过磁吸模块和伸缩模块实现擦洗刷与晶圆间的恒定压力控制，解决了擦洗过程中压力不均的问题，可提升晶圆抛光前的清洁效果和良率。