清溢光电半导体掩膜版技术取得新突破

清溢光电在互动平台表示，半导体芯片掩膜版方面，已量产180nm工艺节点产品，并完成150nm小规模量产，正推进130nm至65nm的PSM和OPC工艺开发及28nm半导体所需掩膜版规划。平板显示领域，实现了8.6代高精度TFT、6代AMOLED/LTPS及中高端半透膜掩膜版的研发与量产。