清溢光电研发投入领先 加速半导体掩膜版国产替代

2025年上半年，清溢光电研发费用2485万元，研发人员106人，占比16.54%，专利总数84项（发明专利18项）。在显示掩膜版领域稳居全球第四、中国第一，产品覆盖8.6代高精度TFT用掩膜版等，与京东方等厂商深度合作，实现中高端半透膜掩膜版量产及超高规HTM小规模量产。半导体芯片掩膜版领域已实现180nm工艺节点量产、150nm小规模量产，应用于IGBT等领域，正加速提升国产化率。