【经营】清溢光电55nm高端掩膜版产品进入客户上线认证阶段
2026-10-29
清溢光电55nmPSM(相移掩膜版)产品已正式交货,进入客户上线认证阶段,该产品可提升光刻分辨率、改善图形对比度,覆盖逻辑、存储等高精密图形场景,是公司高端半导体掩膜版产品化进程的重要突破。
若后续产品顺利通过认证并实现规模化供货,将进一步完善公司高端产品矩阵,提升半导体掩膜业务盈利能力,强化国内高端掩膜市场的竞争优势。
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