微导纳米研发国内首台量产型High-k ALD设备攻克关键工艺

微导纳米成功研发出国内首台量产型High-k ALD设备，该设备应用于集成电路制造前道生产线，攻克了国内集成电路突破关键制程节点的核心难题——高介电常数High-k栅氧层薄膜工艺。同时，公司CVD设备在硬掩膜等关键工艺领域取得突破性进展，成为国内首批成功开发硬掩膜化学气相沉积CVD设备并顺利进入产业链核心厂商量产线的国产企业。其核心技术已实现多领域覆盖，可适配逻辑芯片、存储芯片等关键应用场景，持续聚焦半导体先进制程薄膜工艺解决方案，服务并引领半导体新架构、新器件发展。