【观点】半导体设备国产化进入第二轮攻坚,薄膜沉积有望加速突破
2026-10-14
2026年工博会国芯展期间,时代商业研究院发布半导体产业深度观察报告,从政策、市场、技术、供需四维度研判国产集成电路产业进展。
在半导体设备领域,薄膜沉积设备国产化率目前仅约25%,被开源证券明确列为未来4年国产化率迅速提升的第二轮攻坚重点方向。微导纳米作为薄膜沉积设备代表企业参展,展示适配特色工艺及先进封装的量产设备能力。
报告核心趋势判断:国产设备采购逻辑正从政策驱动转向商业驱动,海外设备交期大幅延长为国产设备创造前所未有的验证窗口,晶圆厂在成熟制程上愿意给予国产设备更多份额。此外,头部企业加速向平台型公司转型,行业整合成为必然走向。
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在半导体设备领域,薄膜沉积设备国产化率目前仅约25%,被开源证券明确列为未来4年国产化率迅速提升的第二轮攻坚重点方向。微导纳米作为薄膜沉积设备代表企业参展,展示适配特色工艺及先进封装的量产设备能力。
报告核心趋势判断:国产设备采购逻辑正从政策驱动转向商业驱动,海外设备交期大幅延长为国产设备创造前所未有的验证窗口,晶圆厂在成熟制程上愿意给予国产设备更多份额。此外,头部企业加速向平台型公司转型,行业整合成为必然走向。
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