ASML光刻方案获验证，炬光科技受关注

根据财联社报道，阿斯麦（ASML）首席执行官表示，为High-NA EUV光刻机设计的光刻改进方案已得到验证，成像效果极佳，分辨率非常出色。目前公司正与客户合作，以全面完善该光刻系统的成熟度，并确保在明年内实现停机时间降至最低的稳定运行。

首席执行官预计，High-NA EUV将在2027至2028年间实现大规模量产。炬光科技被列为光刻机光源系统领域相关企业。