【观点】PPPL突破或带动华特气体高纯氟基气体需求
DEEPTOPIC · 深度研究
2026-06-22
6月22日,普林斯顿PPPL实验室在《物理化学快报》发表研究,利用氧/氟等离子体处理MoS₂,将接触电阻降低5-10倍。该工艺兼容现有芯片制造设备,高纯氟基气体(如CF₄、SF₆)为直接耗材。华特气体作为国内高纯氟基气体供应商,有望受益于二维半导体量产带来的需求增量,但需将气体纯度从5N提升至7N以上,认证周期存在不确定性。
点此打开小程序免费查看完整AI分析结果
点此打开小程序
重要提示和声明
本页面内容由AI生成,不保证完全真实、准确或完整,不代表希财舆情宝官方立场,不构成任何投资建议。查看详细说明,请点击此处
订阅榜