国产电子束光刻机突破 路维光电技术迎新机遇

近日，全国首台国产商业电子束光刻机'羲之'进入应用测试，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发国产化进程取得突破。路维光电在半导体掩膜版领域已针对电子束光刻和干法制程技术开展研究，相关技术可应用于90nm、40nm光刻机。券商指出，全球光刻机市场规模持续增长，国产光刻机产业链企业正加速技术突破，建议关注投资机会。