天合光能获硅片除杂发明专利，研发创新再提速

天合光能于2025年6月27日获得发明专利授权，专利名称为“硅片除杂方法、硅片及其制备方法和应用”。该专利通过改进制绒处理、非晶硅层掺杂及退火工艺，可提升硅片光电转换效率，增加短路电流、开路电压等关键指标。今年以来公司新获专利282项，同比增16.53%，2024年研发投入18.46亿元，同比增19.62%。