龙图光罩加速追赶国际巨头，130nm制程突破但高端市场仍被三强垄断

半导体掩膜版行业全球市场规模持续增长，中国因晶圆产能转移成为重要市场。独立第三方市场由美国Photronics、日本Toppan和DNP主导，占八成份额。国内企业如龙图光罩处于加速追赶期，2022年工艺节点提升至130nm，并计划通过募投项目开发更高制程（130-65nm）产品。国内厂商整体仍集中在350-130nm制程，与国际龙头存在差距。