龙图光罩PSM验证成功 需求增长助力下半年放量

龙图光罩珠海高端掩模版PSM样品验证成功，客户流片Wafer下线数据达标，预计下半年放量增厚收入。公司已实现130nm工艺量产并通过珠海项目升级至65nm制程，技术居国内第三方厂商第一梯队。产品应用领域覆盖新能源汽车、AI数据中心等需求旺盛的功率半导体和射频芯片市场。